特許
J-GLOBAL ID：200903062378386269
微小構造体およびその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-259447
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101320
出願日： 1994年09月29日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】 ほぼ平坦な表面を有し、材料選択の幅が広く、かつ界面のプロファイルが階段状の微小構造体を簡便な方法により単純なプロセスでしかも材料を有効利用しつつ作製する。【構成】 基板1の一主面に微小な溝1aを互いに近接して複数形成し、その主面の上に埋め込み用の膜2を液相エピタキシャル成長法などにより形成し、これらの溝1aを埋める。
請求項（抜粋）：
一主面に微小な凹凸が存在する基板の凹部がエピタキシャル成長法により形成された上記基板と同一または異なる物質により埋め込まれており、かつ上記物質の表面はほぼ平坦であることを特徴とする微小構造体。
IPC (2件)：
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