顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：田中宏 , 樋口榮四郎 , 宮本晴視
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-221399
公開番号（公開出願番号）：特開2008-046324
出願日： 2006年08月15日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：

【課題】顕微鏡観察画像視野下で顕体試料とマイクロプローブの針先を観察しながら、半導体集積回路などの多層微細配線深層部へダイレクトに電気的特性の測定を行ない不良箇所の解析を行なうにおいて、絶縁膜を効率的に除去し、測定対象箇所へのプローブの移動と位置決めを効率的に行ない、同時に操作性および確実性に優れた微細作業を行なうことのできるマニピュレーション装置の提供【構成】局所プラズマ機構、および該局所プラズマ機構の先端部であるプラズマキャピラリー管を把持するプラズマキャピラリー管位置決めステージ、試料ステージおよび1つまたはそれ以上のプローバがプローバベース上に載置され、該プローバベースが顕微鏡の視野下に着脱自在に装着できる構造を有することを特徴とする顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

局所プラズマ機構、および該局所プラズマ機構の先端部であるプラズマキャピラリー管を把持するプラズマキャピラリー管位置決めステージ、試料ステージおよび1つまたはそれ以上のプローバがプローバベース上に載置され、該プローバベースが顕微鏡の視野下に着脱自在に装着できる構造を有することを特徴とする顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置。

IPC (5件)：

G02B 21/32 , H01L 21/66 , G01R 31/26 , H01J 37/20 , B25J 7/00

FI (5件)：

G02B21/32 , H01L21/66 B , G01R31/26 Z , H01J37/20 F , B25J7/00

Fターム (18件)：

2G003AA07 , 2G003AG03 , 2G003AG12 , 2G003AH04 , 2H052AD20 , 2H052AF10 , 2H052AF19 , 3C007BS30 , 3C007GS01 , 3C007XG05 , 3C007XG08 , 4M106AA01 , 4M106BA01 , 4M106CA01 , 4M106DD22 , 4M106DH50 , 5C001BB07 , 5C001CC04

引用特許：

出願人引用 (5件)

微細作業用マイクロマニピュレーション装置及び微細作業用マイクロプローブ
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-025155 出願人：株式会社三友製作所, 山本佳男
微細作業用マイクロマニピュレーション装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-169974 出願人：株式会社三友製作所
電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-038093 出願人：株式会社三友製作所, 独立行政法人産業技術総合研究所

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審査官引用 (8件)

特開平4-100252
走査電子顕微鏡装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-350011 出願人：株式会社豊田中央研究所
特開昭59-143249

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