特許

J-GLOBAL ID：200903062382263821

光学特性測定方法及び光学特性測定装置、光学系の調整方法、並びに露光装置

発明者： 藤井 透 ,  正田 隆博 ,  向後 淳 ,  水野 恭志
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-013853
公開番号（公開出願番号）：特開2003-214984
出願日： 2002年01月23日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】【課題】 被検光学系の光学特性を精度良く測定する。【解決手段】 光拡散部材DFを介して所定のパターンPH1が形成されたマスクRTを照射するとともに、光拡散部材DF、マスクRT、及び受光用開口91aの少なくとも1つの位置を変化させて、受光用開口91aを介した光を波面分割して複数のパターン像を形成する。引き続き、形成された複数のパターン像それぞれの位置情報を検出する。この結果、光拡散部材による光の拡散ムラが一種の平均化効果によって低減した状態での複数のスポット像の位置情報が検出される。そして、検出された複数のスポット像の位置情報に基いて、被検光学系PLの光学特性を算出する。

請求項（抜粋）：

光拡散部材、所定のパターンが形成されたマスク、及び被検光学系を順次介した後、受光用開口に到達した光に基づいて、前記被検光学系の光学特性を測定する光学特性測定方法であって、前記受光用開口に到達する光に対して、前記光拡散部材、前記マスク、及び前記受光用開口の少なくとも1つの位置を変化させ、前記受光用開口を介した光を波面分割して複数のパターン像を形成し、前記複数のパターン像それぞれの位置情報を検出するパターン像位置検出工程と;前記パターン像位置検出工程において検出された前記複数のパターン像それぞれの位置情報に基づいて、前記被検光学系の光学特性を算出する光学特性算出工程と;を含む光学特性測定方法。

Fターム (1件)：

2G086HH06