特許
J-GLOBAL ID：200903062384016112
電子ビーム照射分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
土橋 皓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-303136
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161332
出願日： 1993年12月02日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 電子ビーム照射分析装置に係り、試料から放出される荷電粒子の検出効率を低下させず、光による観察を良好に行えるようにすることを目的とする。【構成】 電子銃3と、電子ビーム2を試料1上に収束させて走査する電子ビーム制御系4と、試料1からの荷電粒子5を検出する検出手段6と、試料1の光学観察手段7とを有する電子ビーム照射分析装置において、光学観察手段7を、試料面に垂直な方向から試料1の観察を行うように配置し、電子ビームを光学観察手段7の光軸8から外れた方向から照射するように配置し、この電子ビーム2を偏向させて、最終的に上記光学観察手段7の光軸8と同一の方向から試料に照射すると共に、前記試料の観察のための光に影響を与えることなく透過する偏向手段9を設け、電子ビームを試料の光学観察範囲に照射するよう構成する。
請求項（抜粋）：
試料(1)に向け電子ビーム(2)を発生する電子銃(3)と、前記電子銃(3)が発生した電子ビーム(2)を試料(1)上に収束させて走査する電子ビーム制御系(4)と、前記試料(1)から放出される荷電粒子(5)を検出する検出手段(6)と、前記試料(1)に光を照射して、電子ビーム走査範囲を含む範囲を観察する光学観察手段(7)とを有する電子ビーム照射分析装置において、前記光学観察手段(7)を、試料(1)に垂直な方向から観察を行うように配置し、電子銃(3)と電子ビーム制御系(4)を前記電子ビームを光学観察手段(7)の光軸(8)から外れた方向から照射するように配置し、この電子ビーム(2)を偏向させて、最終的に上記光学観察手段(7)の光軸(8)と同一の方向から試料に照射すると共に、前記試料の観察のための光に影響を与えることなく透過する偏向手段(9)を設け、電子ビームを試料の光学観察範囲に照射するようにしたことを特徴とする電子ビーム照射分析装置。
IPC (4件)：
H01J 37/256
, G01N 23/225
, H01J 37/05
, H01J 37/22 502
