特許
J-GLOBAL ID：200903062392020501
磁気抵抗効果ヘッド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-167825
公開番号（公開出願番号）：特開平10-011719
出願日： 1996年06月27日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：
【要約】【課題】 効率よく磁気記録情報を再生できる磁気抵抗効果ヘッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る磁気抵抗効果ヘッドは、軟磁性横バイアス膜110、非磁性スペーサ膜120、磁気抵抗効果膜130、反強磁性膜141,142及び電極膜151,152が順次積層され、かつ、軟磁性横バイアス膜110は情報検出領域10を含むその近傍にのみ形成され、反強磁性膜141,142及び電極膜151,152は検出領域10を除く磁気抵抗効果膜130の両端部にのみ形成された構造になっている。
請求項（抜粋）：
軟磁性横バイアス膜と磁気抵抗効果膜とが非磁性スペーサ膜を介して積層されてなる磁気抵抗効果ヘッドにおいて、前記軟磁性横バイアス膜の面積が前記磁気抵抗効果膜の情報検出領域よりも大きくかつ前記磁気抵抗効果膜全体よりも小さく形成されていることを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
引用特許：
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