特許
J-GLOBAL ID:200903062396175925

彫刻された線画模様形成体及び彫刻方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-072398
公開番号(公開出願番号):特開2000-263373
出願日: 1999年03月17日
公開日(公表日): 2000年09月26日
要約:
【要約】【課題】 基材上に作製された線画原画像から、NC工作機用の彫刻データに生成し、正確な深さ値と所望する画線の断面形状及び肉止め形状を有した、凹版画線を線画原画像に対し忠実に彫刻するものである。【解決手段】 本発明は、紙等の基材上に描かれた線画模様を、画像入力機器を用いて画像入力しビットマップデータとした後、該ビットマップデータに対し、輪郭追跡等の画像処理を行いベクトルデータ型の線画データとし、その線画データに対し、収縮処理を複数回行うことによって、NC工作機用のカッターパスを作製し、前記作製した各々のカッターパスに、所望する深さ値等を付与するテキスト処理を施し4軸制御のNC工作機用の彫刻データを作製し、該データに基づき金属等の基材上に凹版画線形成体を彫刻する方法である。
請求項(抜粋):
紙等の基材上に描かれた線幅が変化した線画模様を、画像入力機器を用いて画像入力しビットマップ型のデジタルデータとした後、該ビットマップデータに対し、輪郭追跡の処理を行いベクトルデータ型の線画データとし、該線画データに対し、付与する深さ値を考慮した特定の距離間隔による収縮処理を複数回行うことによって、NC工作機用のカッターパスを作製し、前記作製した各々のカッターパスに、所望する深さ値、法線方向情報及び機械制御用のコードを付加し4軸制御のNC工作機用の彫刻データを作製し、該データに基づき金属等の基材上に彫刻された、線幅が変化した線画模様形成体。
IPC (4件):
B23Q 15/00 305 ,  B23Q 15/00 301 ,  B44B 1/00 ,  G05B 19/4097
FI (4件):
B23Q 15/00 305 C ,  B23Q 15/00 301 Z ,  B44B 1/00 ,  G05B 19/403 C
Fターム (5件):
5H269AB01 ,  5H269AB27 ,  5H269EE01 ,  5H269JJ20 ,  5H269QC09
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭52-150113
  • 特開昭52-150113
  • 木目エンボス版の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-192391   出願人:大日本印刷株式会社

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