特許
J-GLOBAL ID：200903062404114248
薄膜の除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-166512
公開番号（公開出願番号）：特開平7-000908
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：
【要約】【構成】薄膜を除去すべき部分の基体表面に予め水溶性物質被膜を形成し、次いで基体面に薄膜を形成した後、この薄膜付き基体を水洗することにより水溶性物質被膜を除去し、これによって除去すべき部分の薄膜の除去方法。【効果】従来のレジストと異なり、乾燥のみで焼成が不要となる、剥離の際ブラッシングが不要となり、ブラシ傷等の欠陥の発生もない、残った薄膜の端部が持ち上るスパイク現象が生じない等の効果を有する。
請求項（抜粋）：
薄膜付き基体から除去すべき部分の薄膜を除去する方法において、薄膜を除去すべき部分の基体表面に予め水溶性物質を塗布し、乾燥して水溶性物質被膜を形成し、次いで基体面に薄膜を形成した後、この薄膜付き基体を水洗することにより水溶性物質被膜を除去し、これによって除去すべき部分の薄膜を除去することを特徴とする薄膜の除去方法。
IPC (2件)：
B05D 5/06 101
, H05K 3/02
