特許
J-GLOBAL ID：200903062408143048

SiO2を主成分とする酸化物皮膜およびその製造方法

発明者：
西森 秀樹

西森 秀樹 について

, 
宗宮 和久

宗宮 和久 について

, 
橋本 明

橋本 明 について

, 
多田 清志

多田 清志 について


出願人/特許権者：
昭和アルミニウム株式会社

昭和アルミニウム株式会社 について


代理人 (1件)： 岸本 瑛之助 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-008344
公開番号（公開出願番号）：特開平10-203819
出願日： 1997年01月21日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：
【要約】【課題】 緻密な皮膜と凹凸を有する皮膜との長所を合わせ持った酸化物皮膜を提供する。【解決手段】 SiO2 を主成分とするとともに、ゾル-ゲル法により形成された酸化物皮膜1である。緻密層2上に凹凸層3を一体に形成する。凹凸層3の表面全体に微細な凹凸を形成して粗面化する。
請求項（抜粋）：
SiO2 を主成分とするとともに、ゾル-ゲル法により形成されており、緻密層上に凹凸層が一体に形成され、凹凸層の表面全体に微細な凹凸が形成されて粗面化されている酸化物皮膜。
IPC (2件)：
C01B 33/12 ,  F28F 3/00
FI (2件)：
C01B 33/12 C ,  F28F 3/00
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM