特許
J-GLOBAL ID：200903062410016312
Pb系強誘電体スパッタリング用ターゲット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-232393
公開番号（公開出願番号）：特開平6-081138
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：
【要約】【目的】 Pb系強誘電体をスパッタリングにより形成する際に、成分調整のために強誘電体粉末にPbO粉末を添加した場合における強誘電体の成分の安定化に要する時間の短縮化を図ることを目的とする。【構成】 Pb系強誘電体をスパッタリングによって形成するためのターゲットであって、平均粒径が、10μm以下のPb系強誘電体粉末およびPbO粉末とを混合・焼結してなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
Pb系強誘電体をスパッタリングによって形成するためのターゲットであって、平均粒径が、10μm以下のPb系強誘電体粉末およびPbO粉末とを混合・焼結してなることを特徴とするPb系強誘電体スパッタリング用ターゲット。
引用特許：
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