ディスク基板の処理方法及び装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-197738
公開番号（公開出願番号）：特開2002-358695
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】反りの小さいディスク基板を得、反りの小さい品質の高い光ディスクを提供すること。【解決手段】射出成形された成形ディスク基板を高速で回転させ、その回転による遠心力で前記成形ディスク基板の反りの低減と冷却を行うことを特徴とする成形ディスク基板の反り低減方法。

請求項（抜粋）：

射出成形された成形ディスク基板を高速で回転させ、その回転による遠心力で前記成形ディスク基板の反りを低減、及び/又はその温度を低下させることを特徴とするディスク基板の処理方法。

Fターム (10件)：

5D121AA02 , 5D121DD13 , 5D121DD17 , 5D121GG20 , 5D121GG28 , 5D121GG30 , 5D121HH08 , 5D121HH18 , 5D121JJ03 , 5D121JJ09

引用特許：

審査官引用 (4件)

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