特許
J-GLOBAL ID：200903062429547963
電離性放射線照射による難処理活性炭の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211957
公開番号（公開出願番号）：特開平5-049927
出願日： 1991年08月23日
公開日（公表日）： 1993年03月02日
要約：
【要約】【目的】 従来処理が困難とされてきたPCBやトリクロロエチレン(TCE)などの有機塩素化合物の吸着処理に用いられた活性炭を安全に且つ効率よく分解処理する方法を提供する。【構成】 有機塩素化合物を吸着した活性炭に水を添加した後、電離性放射線を照射することにより、活性炭に吸着されている有機塩素化合物を分解、無害化することを特徴とする難処理活性炭の処理方法。【効果】 現在まで処理されずに蓄積されてきた吸着活性炭を低コストで処理することが可能となった。
請求項（抜粋）：
有機塩素化合物を吸着した活性炭に水を添加した後、電離性放射線を照射することにより、活性炭に吸着されている有機塩素化合物を分解、無害化することを特徴とする難処理活性炭の処理方法。
IPC (4件)：
B01J 20/34
, B01J 19/12
, B09B 3/00 304
, C01B 31/08
