特許

J-GLOBAL ID：200903062444622483

ナノトポグラフィー装置を較正及び検査するための標準体及び該標準体の製造方法

発明者： フリードリッヒ パセック ,  ラインハルト シャウアー ,  リューディガー シュモルケ ,  ラルフ クンペ
出願人/特許権者： ワッカー ジルトロニック ゲゼルシャフト フュア ハルプライターマテリアーリエン アクチエンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-142353
公開番号（公開出願番号）：特開2002-039921
出願日： 2001年05月11日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】 ナノトポグラフィー装置を較正及び検査するための標準体及び該標準体の製造方法を提供する。【解決手段】 該標準体は、基板と、該基板に堆積された、0.5〜20mmの横方向の寸法及び5〜500nmの垂直方向の寸法を有する少なくとも1つの構造とを有し、該構造が最高1×10-3のピッチを有する側面により制限されている。該標準体を製造するには、材料を不均一な堆積速度で基板に堆積させる。

請求項（抜粋）：

基板と、該基板に堆積された、0.5〜20mmの横方向の寸法及び5〜500nmの垂直方向の寸法を有する少なくとも1つの構造とを有し、該構造が最高1×10-3のピッチを有する側面により制限されている、ナノトポグラフィー装置を較正及び検査するための標準体。

IPC (2件)：

G01N 1/00 102 ,  G01N 13/10

FI (2件)：

G01N 1/00 102 B ,  G01N 13/10 D

Fターム (6件)：

2G052AA39 ,  2G052EB11 ,  2G052FD06 ,  2G052GA36 ,  2G052HA17 ,  2G052HC22