特許

J-GLOBAL ID：200903062458233480

有害物質処理方法およびその装置

発明者： 仙波 範明 ,  菅田 清 ,  浅野 昌道 ,  青木 泰道 ,  橋爪 隆夫
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221543
公開番号（公開出願番号）：特開2000-051874
出願日： 1998年08月05日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】 原水中のオゾン濃度を高めてヒドロキシラジカルを効率よく発生させることができる有害物質処理方法およびその装置を提供する。【解決手段】 難分解性物質などの有害物質を含んだ原水1を貯蔵する原水槽11に送給ポンプ13を連結し、送給ポンプ13の送出口側に配管14,15の一端側をそれぞれ連結し、オゾンガス2を発生させるオゾン発生器16を配管14の途中に連結し、配管14の他端を加圧ポンプ18に連結し、加圧ポンプ18を加圧溶解槽20に連結し、加圧溶解槽20を処理槽22の底部に連結する一方、配管15の他端を処理槽22の側面上方に連結すると共に、処理槽22の内部にUVを照射するUVランプ23およびスクレーパ24を配設し、原水1にオゾンガス2を加圧環境下で溶解させると共に、原水1にUVの照射を行うことにより、ヒドロキシラジカルを発生させて原水1に含まれている難分解性物質を分解処理することができるようにようにした。

請求項（抜粋）：

原水にオゾンガスを加圧環境下で溶解させると共に、原水に紫外線の照射または過酸化水素の添加を行うことにより、ヒドロキシラジカルを発生させて原水に含まれている難分解性物質を分解処理することを特徴とする有害物質処理方法。

IPC (5件)：

C02F 1/72 101 ,  C02F 1/24 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/78 ZAB

FI (7件)：

C02F 1/72 101 ,  C02F 1/24 A ,  C02F 1/24 B ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/58 F ,  C02F 1/78 ZAB

Fターム (18件)：

4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037BA18 ,  4D037CA12 ,  4D038AA08 ,  4D038AB11 ,  4D038AB14 ,  4D038BB04 ,  4D038BB07 ,  4D038BB16 ,  4D050AA12 ,  4D050AB15 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050CA04 ,  4D050CA07