荷電ビーム描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-215741
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063927
出願日： 1995年08月24日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【課題】本発明は、アパーチャ形状を高精度に測定し、かつ成形アパーチャ形状の回転角度を高精度に測定する。【解決手段】荷電ビームを成形アパーチャ12、13に通過させてビーム形状を成形し、この荷電ビームを試料15に照射して描画を行う場合、ビーム電流量を実測し、この実測されたビーム電流量とシミュレーションにより求めたビーム電流量の理論値とを比較し、その差分に基づいて第2の成形アパーチャ13の形状を求め、かつ実測されたビーム電流量とシミュレーションにより求めた各回転角度のビーム電流量の理論値とを比較し、最も一致するビーム電流量の理論値から第1の成形アパーチャ12の回転角度を求め、この回転角度に従って第1の成形アパーチャ12の回転角度を調整する。

請求項（抜粋）：

荷電ビームを成形アパーチャに通過させてビーム形状を成形し、この荷電ビームを試料に照射して描画を行う荷電ビーム描画装置において、予め前記荷電ビームのビームサイズに対するビーム電流量の理論値との関係を保持するビームサイズ保持手段と、前記荷電ビームのビームサイズを前記成形アパーチャにより成形したときのビーム電流量を実測し、このビーム電流量と前記ビームサイズ保持手段に保持されているビーム電流量の理論値とを比較して前記成形アパーチャの形状を求める形状算出手段と、を具備したことを特徴とする荷電ビーム描画装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/305

FI (5件)：

H01L 21/30 541 B , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 Q

前のページに戻る