特許
J-GLOBAL ID:200903062473768047

微小構造体、その形成方法ならびにその構造体を用いた原子間力顕微鏡、走査型トンネル電流顕微鏡および光偏向装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-153224
公開番号(公開出願番号):特開平8-015284
出願日: 1994年07月05日
公開日(公表日): 1996年01月19日
要約:
【要約】【構成】 基板の一部を片面からエッチング除去してその基板中に薄板部を形成し、エッチング面と逆の面の一部をエッチング除去して微小構造体形成用溝を薄板形成部に形成し、その2つのエッチング工程を施した基板をその微小構造体用溝を形成した面で他の基板と接合し、前記の最初のエッチング工程によって薄板部が形成された基板面から薄板部の少なくとも一部をエッチング除去して、薄板部を基板から分離することによって、微小構造体を形成する。【効果】 形成時の残留応力などに起因するたわみ、ハンドリングによる傷を介在とした構造体の破壊を大幅に抑制することができ、性能の優れた微小構造体を高精度・高歩留りで形成することができる。
請求項(抜粋):
基板の一部を片面からエッチング除去し該基板中に薄板部を形成する第1のエッチング工程、該エッチング面と逆の面の一部をエッチング除去して微小構造体形成用溝を薄板形成部に形成する第2のエッチング工程、前記2つのエッチング工程を施した基板を該微小構造体用溝を形成した面で他の基板と接合する工程、前記第1のエッチング工程によって薄板部が形成された基板面から薄板部の少なくとも一部をエッチング除去して該薄板部を基板から分離する工程を含む微小構造体の形成方法。
IPC (2件):
G01N 37/00 ,  C23F 1/00

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