気相化学反応エッチング方法ならびにその装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-164907
公開番号（公開出願番号）：特開平7-017800
出願日： 1993年07月05日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：

【要約】【目的】金属元素の酸化物もしくは窒化物の気相化学反応エッチングを容易に可能にするエッチング方法とその装置構成とを提供する。【構成】反応ガスとして、水素ガスと、電子受容性ガス:A(Aは炭素数が1〜3のアルカン、アルケンあるいはアルキン類の炭素化水素、もしくはこれらのアルコール類,ケトン類,または前記炭化水素の水素をハロゲンで置換した物質、またはハロゲンの単体)中の少なくとも1種とを用い、被エッチング物の構成元素を各反応ガスの作用で個別に母材表面から離脱させる方法とする。各反応ガスはこれらを混合し、あるいは個別にプラズマ励起して同時に被エッチング物に作用させてトータルなエッチング量を効率よく得るようにするか、個別にプラズマ励起された各反応ガスを時間帯をずらせて被エッチング物2に作用させて原子層ごとのエッチングも可能にする使い方とする。

請求項（抜粋）：

金属元素の酸化物もしくは窒化物を気相化学反応によりエッチングする方法において、水素ガスと、電子受容性ガス:A(Aは炭素数が1〜3のアルカン,アルケンあいはアルキン類の炭化水素、もしくはこれらのアルコール類,ケトン類、または前記炭化水素をハロゲンで置換した物質、またはハロゲンの単体)中の少なくとも1種とを反応ガスとして用いることを特徴とする気相化学反応エッチング方法。

IPC (7件)：

C30B 33/12 ZAA , B01J 19/08 , C01G 1/00 , C01G 3/00 ZAA , C04B 41/91 ZAA , H01L 21/3065 , C23F 4/00

FI (2件)：

H01L 21/302 F , H01L 21/302 B

前のページに戻る