特許

J-GLOBAL ID：200903062500278138

アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路

発明者： 林田 茂 ,  田谷 昌人 ,  森田 正樹
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-175825
公開番号（公開出願番号）：特開平8-041331
出願日： 1994年07月27日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】耐熱性に優れ、かつ光スイッチングや変調等の光信号処理に優れたアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供する。【構成】フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)(式中、Z1は酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子、SO2基又はNR1基を示し、Z2は窒素原子又はCR2基を示し、Yは酸素原子、硫黄原子又はNR3基を示し、XはCR4R5基、NR6基、酸素原子又は硫黄原子を示し、R、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して非置換の若しくは置換基を有する複素環基、非置換若しくは置換基を有する芳香族炭化水素基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は水素原子を示し、R4とR5とで炭化水素環又は複素環を形成してもよい)で表される化合物であるアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路。

請求項（抜粋）：

フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)【化1】(式中、Z1は酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子、SO2基又はNR1基を示し、Z2は窒素原子又はCR2基を示し、Yは酸素原子、硫黄原子又はNR3基を示し、XはCR4R5基、NR6基、酸素原子又は硫黄原子を示し、R、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して非置換の若しくは置換基を有する複素環基、非置換の若しくは置換基を有する芳香族炭化水素基、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は水素原子を示し、R4とR5とで炭化水素環又は複素環を形成してもよい)で表される化合物であるアクティブ光導波路用組成物。

IPC (7件)：

C08L 79/08 LRB ,  C08K 5/3412 ,  C08K 5/36 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/03 501 ,  G02F 1/313

FI (3件)：

G02B 6/12 J ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M