特許

J-GLOBAL ID：200903062516668157

ECRスパッタ装置およびECRスパッタ装置を用いた基板クリーニング方法

発明者： 外山 元夫
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
代理人 (1件)： 五十嵐 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-171043
公開番号（公開出願番号）：特開平7-003446
出願日： 1993年06月17日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】【目的】 基板上に高品質な薄膜を形成することができるECRスパッタ装置と、基板を装置内で完璧にクリーニングすることができるECRスパッタ装置を用いた基板クリーニング方法を提供する。【構成】 プラズマ室7と隣接に配設した成膜室1にはプラズマ室7に通じるプラズマ導入孔4を設け、プラズマ導入孔4には第1、第2のターゲット15,17を設け、各ターゲット15,17にはそれを覆う第1、第2のシャッタ25,27を設ける。また、成膜室1には基板ホルダ2を設けて基板を取り付け、ホルダ2側に基板3を覆うシャッタ26を設ける。そして、まず、(a)のように全てのシャッタ25,26,27を閉じたままプラズマ室7でECRプラズマを発生させ、次に、(b)のようにシャッタ26を開けてプラズマを基板3に衝突させて基板3クリーニングを行った後、シャッタ25,27を開けて第1、第2のターゲット15,17材の薄膜を基板3上に形成する。

請求項（抜粋）：

ECRプラズマを発生するプラズマ室と、該プラズマ室に隣接し、プラズマ室に通ずるプラズマ導入孔を有する成膜室とを有し、成膜室には基板を着脱自在に取り付ける基板ホルダを設け、プラズマ導入孔には複数のターゲットを配置し、各ターゲット側にはターゲットを覆う独立のシャッタを開閉自在に設けたことを特徴とするECRスパッタ装置。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/02