特許

J-GLOBAL ID：200903062529904488

基板上にマスクパターンを投影する装置及び方法

発明者： ステファン ウィッテクック ,  マリヌス アルト ファン デン ブリンク ,  テオドルス アルト ファーネル
出願人/特許権者： アーエスエム リソグラフィー ベスローデン フェンノートシャップ
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-078731
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163348
出願日： 1991年03月05日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】映像位置と映像品質を迅速に決定し、映像品質を最良化する。【構成】調整装置及び焦点合わせ装置FD,基板台位置決め装置(IF)と同時に投影映像検出手段を具えたリソグラフィー投影装置等から構成され、全ての装置が共働する基準板RPを介して異なる装置が一緒に結合されている。特別の方法で取り付けられている映像検出装置が基準板内の異なる格子印P3 ,P4 ,P5 の情報を同時に処理し、一方測定は急速且つ正確に実施でき、最良映像品質を得られる。

請求項（抜粋）：

投影レンズシステムと投影ビームとによって基板台内に設けられた基板上へマスク台に設けられたマスクパターンを投影する方法であって、- マスク台内にマスク基準印を有しているマスクを設ける工程と、- 投影ビーム内に基準板を有している基準板を設ける工程と、- 投影ビームと投影レンズシステムとによって基準板の相当する印上のマスクの少なくとも一つの印の映像を投影する工程と、- 放射線高感度映像検出用検出器によって照明された基準板の印からの投影放射線を検出する工程と、- 検出信号を調整校正信号と倍率誤差信号とに電気的に処理する工程と、- 前記のそれぞれの信号によって調整装置を調節し、投影レンズシステムの倍率を設定する工程と、- 投影ビームから基準板を除去し且つ投影ビーム内に製造基板を設ける工程、及び、- 製造基板上の異なる位置に製造マスクを次々と反復して投影する工程と、を具えている基板上にマスクパターンを投影する方法において、基板台位置検出装置と光学焦点誤差検出装置の信号とが映像検出装置の信号と同時に電気的に処理されて、複数の映像検出検出器が各基準板印に対して用いられ、前記検出器は関連する基準板印からの放射線のみを受け取り、且つ映像検出装置の信号、基板台位置検出装置の信号、及び光学焦点誤差検出装置の信号も焦点誤差検出装置のための校正信号と映像品質に影響するパラメータの少なくとも一つが調節される少なくとも一つの制御信号とへ処理されることを特徴とする基板上にマスクパターンを投影する方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/207

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-018950
  
• 特開平1-184286
  
• 特開昭56-096203