真空処理装置および真空処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-020273
公開番号（公開出願番号）：特開2002-222770
出願日： 2001年01月29日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：

【要約】【課題】自燃性ガスと支燃性ガスを同時に使用する真空処理装置において、自燃性ガスと支燃性ガスの反応を防止する。【解決手段】原料ガスを供給する配管の真空処理装置の直前に圧力計を設け、圧力計の値があらかじめ設定された値以上となったときに原料ガスの供給を遮断する。

請求項（抜粋）：

反応容器内に配された支燃性ガスと自燃性ガスとを有する原料ガスを供給するための原料ガス供給手段と、少なくとも基体の設置部と、を有する減圧可能な反応容器を有する真空処理装置であって、前記原料ガスは該反応容器の外部から配管を介して該反応容器内部のガス放出ノズルより該反応容器内に供給され、前記配管内の前記反応容器に接続された部分を含む直前に圧力計を備え、前記圧力計が所定値以上で該原料ガスの供給を遮断する機構を有する真空処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/455

FI (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/455

Fターム (21件)：

4K030EA01 , 4K030EA06 , 4K030FA03 , 4K030HA15 , 4K030JA09 , 4K030KA11 , 5F045AA08 , 5F045AB32 , 5F045AC01 , 5F045AC02 , 5F045AC03 , 5F045AC11 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045BB20 , 5F045CA16 , 5F045DP28 , 5F045EE01 , 5F045EF17 , 5F045EH15 , 5F045GB06

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