特許

J-GLOBAL ID：200903062543269523

吸収塔

発明者： 小室 武勇 ,  安 裕寿 ,  加藤 明 ,  山下 寿生 ,  小豆畑 茂 ,  野沢 滋
出願人/特許権者： バブコック日立株式会社
代理人 (1件)： 松永 孝義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-207826
公開番号（公開出願番号）：特開平11-047538
出願日： 1997年08月01日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】 20メートル程度の大口径の吸収塔に1カ所から被処理ガスを導入することでダクトワークを単純化して低コスト化を図るのと同時に、吸収塔に導入された被処理ガスのガス流速分布を均一化して気液接触効率を高めること。【解決手段】 吸収塔内に導入した被処理ガスの流れ場に設けた隔壁11のガス貫通孔の大きさを種々変えることで塔内のガス流れに直交する平面方向でのガス流速分布を均一化する。また、排ガスとの気液接触専用の吸収液噴霧用のノズル4、5とは別にガス流速分布均一化用のスプレノズル(図示せず)から微粒液滴を塔内に導入された被処理ガスに吹き付けることでガス流れに直交する平面方向でのガス流速分布を均一化する。さらに吸収塔内に設置する吸収液噴霧用のスプレノズル4、5をガス流れに直交する断面方向のガス流速分布に応じて各ノズル段に設けられる複数のスプレノズル4、5の設置高さを調整することでも前記ガス流速分布の均一化を図ることができる。

請求項（抜粋）：

被処理ガスを導入して、該被処理ガスに吸収液を噴霧して気液接触させるスプレノズルを設けた吸収塔において、吸収塔内に導入され、スプレノズルからの噴霧吸収液と接触する前の被処理ガスの流れ場にガス流れ方向に直交する平面全域にわたりガス流速を均一化するための隔壁を設置し、該隔壁には複数のガス貫通孔を形成し、ガス流れ方向に直交する平面全域にわたりガス流速を均一化するように各ガス貫通孔の大きさを調整したことを特徴とする吸収塔。

IPC (4件)：

B01D 53/18 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/77

FI (4件)：

B01D 53/18 E ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 125 E ,  B01D 53/34 125 Q