特許

J-GLOBAL ID：200903062554796134

洗浄乾燥装置

発明者： 平野 直也
出願人/特許権者： 島田理化工業株式会社
代理人 (1件)： 萩原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-263754
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077882
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：

【要約】【課題】 搬送中にウェハとの接触を最小限に抑えて汚染率を低減するとともに装置全体を小型化する洗浄乾燥装置を提供する。【解決手段】 ウェハ1を保持する固定受台26を備えた水槽20と、この水槽20内を昇降する昇降手段22と、ウェハ1を複数収納して水槽20内に搬送されて昇降手段22により水槽20内を昇降してウェハ1を固定受台26に保持させるカセット10と、このカセット10を把持して水槽20内に搬送する搬送手段30とを備え、ウェハ1を固定受台26に保持して水槽20内で洗浄するとともに、カセット10に固定受台26よりも上方に位置するウェハ1の保持部を備え、この保持部が洗浄液の排出時に固定受台26より先に水面上に露出して乾燥した後、固定受台26からウェハ1を引き上げるように設ける。また、カセットは、搬送手段が外枠内で開閉して把持できる把持部を設ける。

請求項（抜粋）：

水槽内に洗浄液を貯留して基板を洗浄した後、前記水槽から洗浄液を排出して露出する前記基板に水溶性有機溶剤の蒸気を含む不活性ガスを吹き付けて乾燥させる洗浄乾燥装置において、前記基板を収納して保持する固定受台を備えた水槽と、前記水槽内を上下に昇降する昇降手段と、前記基板を複数収納して前記水槽内に搬送されて前記昇降手段により前記水槽内を昇降して前記基板を前記固定受台に保持させるカセットと、前記カセットを把持して前記水槽内に搬送する搬送手段とを備え、前記昇降手段により前記カセットを降下させて前記固定受台に前記基板を保持させた状態で前記水槽内に洗浄液を供給して洗浄するとともに、前記基板を前記固定受台に保持させて降下した前記カセットに前記基板と接触することなく前記固定受台よりも上方に位置する前記基板の保持部を備え、このカセットの保持部が前記洗浄液の排出時に前記固定受台より先に水面上に露出して乾燥した後、前記昇降手段の上昇により前記基板を保持して水面下の前記固定受台から引き上げるように設けたことを特徴とする洗浄乾燥装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/304 651 G ,  H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/68 A

Fターム (8件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA12 ,  5F031FA18 ,  5F031GA19 ,  5F031HA72 ,  5F031MA23