特許
J-GLOBAL ID:200903062555867809

識別用マーク

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-144194
公開番号(公開出願番号):特開平11-340122
出願日: 1998年05月26日
公開日(公表日): 1999年12月10日
要約:
【要約】【課題】 高いコントラスト得ることができるとともに、パターンの認識精度を大幅に向上できる識別用マークを提供する。【解決手段】 光学的に認識される識別用マーク11を、細分化されたパターン要素12の集合により構成し、この識別用マーク11の表面に照射される光を乱反射させることにより、半導体基板表面との明暗差であるコントラストを高くする。
請求項(抜粋):
物品の表面に形成され、光学的に認識される識別用マークであって、細分化されたパターン要素の集合により構成されている、ことを特徴とする識別用マーク。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  H01L 21/02 ,  G06T 7/00
FI (3件):
H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/02 A ,  G06F 15/62 405 Z

前のページに戻る