特許
J-GLOBAL ID:200903062560121297

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 穂高 哲夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-065794
公開番号(公開出願番号):特開平11-258808
出願日: 1998年03月16日
公開日(公表日): 1999年09月24日
要約:
【要約】【課題】 紫外線、遠紫外線、X線、電子線等の放射線のパターン状照射によりパターン潜像形成部に酸を発生させ、この酸を触媒とする反応によって照射部と未照射部のアルカリ現像液に対する溶解性を変化させ、パターンを現出させるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物において、高感度、高解像度で、かつ現像時の膜減りが少なく、耐熱性が良好なポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (a)原料のモノマーとしてレゾルシノールを使用して合成されたアルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)酸触媒反応により解離可能な酸分解性基を側鎖に有し、該酸分解性基の解離によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加されるビニル重合体及び(d)溶剤を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。
請求項(抜粋):
(a)原料のモノマーとしてレゾルシノールを使用して合成されたアルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)酸触媒反応により解離可能な酸分解性基を側鎖に有し、該酸分解性基の解離によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加されるビニル重合体及び(d)溶剤を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。
IPC (3件):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

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