特許
J-GLOBAL ID：200903062573043538

プラズマトーチ

発明者：
古城 昭

古城 昭 について

, 
小原 裕隆

小原 裕隆 について


出願人/特許権者：
小池酸素工業株式会社

小池酸素工業株式会社 について


代理人 (1件)： 中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-127195
公開番号（公開出願番号）：特開平10-314952
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：
【要約】【課題】トーチ本体に装着したキャップの内側に形成された空間を介して供給されたガスをプラズマアークに沿って噴射するプラズマトーチに於いて、前記ガスの噴射の際の圧力分布を均一化する。【解決手段】トーチ本体1に電極2,ノズル3,キャップ5を取り付け、キャップ5の内面側に空間6を形成し、該空間6とノズル3に形成された三次気流室12を接続する。トーチ本体1にリング状のガス室13を設け、該ガス室13に供給孔14を接続して酸素ガス等のガスを供給し得るように構成すると共に、ガス室13と空間6を複数の導通孔15によって導通する。ガス室13に供給されたガスは直接空間6に流通することなく、ガス室13に充満して圧力が平均化される。このため、空間6内の圧力分布が均一化し、プラズマアークに沿ってノズル3から噴射される三次気流の圧力,流量が均一化する。
請求項（抜粋）：
先端に取り付けたキャップの内面側に形成された空間にガスを供給すると共にプラズマアークを鞘状に包んで噴射し得るように構成したプラズマトーチに於いて、トーチ本体にリング状のガス室を設け、該ガス室と前記キャップの内面側に形成された空間を複数の導通孔によって導通したことを特徴とするプラズマトーチ。
IPC (2件)：
B23K 10/00 504 ,  H05H 1/34
FI (2件)：
B23K 10/00 504 ,  H05H 1/34
引用特許：
審査官引用 (3件)

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