特許

J-GLOBAL ID：200903062585418995

酸化スズ(IV)膜の成膜方法

発明者： 八木 績
出願人/特許権者： 株式会社河合楽器製作所
代理人 (1件)： 山本 孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-192895
公開番号（公開出願番号）：特開平8-041646
出願日： 1994年07月25日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】バッファ層等を形成する必要や単結晶基板を用いる必要がなく、製造工程を簡素化でき、しかも所望の配向性を有する酸化スズ(IV)膜を容易に且つ確実に広い成膜条件にて成膜することを可能にする酸化スズ(IV)膜の成膜方法を提供する。【構成】酸化スズ(IV)膜の成膜方法は、R1R3Sn(OCOR2)(OCOR4)から成る有機スズ化合物を、第1段階でR1及びR3を分解し、第2段階でR2及びR4を分解し、以って酸化スズ(IV)を基体上に成膜する。上記の有機スズ化合物が噴霧されそして基体に到達するまでに、噴霧された有機スズ化合物が第1段階及び第2段階の分解を経ることが望ましい。

請求項（抜粋）：

【化1】から成る有機スズ化合物を、第1段階でR1及びR3を分解し、第2段階でR2及びR4を分解し、以って酸化スズ(IV)を基体上に成膜することを特徴とする酸化スズ(IV)膜の成膜方法。

IPC (4件)：

C23C 16/40 ,  B01J 19/00 301 ,  C01G 19/02 ,  C07F 7/22