特許

J-GLOBAL ID：200903062601310482

表面処理装置

発明者： 土師 宏
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-217251
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063920
出願日： 1995年08月25日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【目的】 メンテナンスが容易な表面処理装置を提供することを目的とする。【構成】 水平なベース12と、ベース12に設けられ対象物を案内するガイドと、下方が開口しており、かつベース12に接した際、密閉空間を形成する蓋13と、蓋13がベース12に対して水平下降状態と垂直上昇状態とを採り得るように、蓋13を支持する支持機構24,25,26,29と、蓋13をベース12に接離させる接離手段とを備える。

請求項（抜粋）：

水平なベースと、前記ベースに設けられ対象物を案内するガイドと、下方が開口しており、かつ前記ベースに接した際、密閉空間を形成する蓋と、前記蓋が前記ベースに対して水平下降状態と垂直上昇状態とを採り得るように、前記蓋を支持する支持機構と、前記蓋を前記ベースに接離させる接離手段とを備えることを特徴とする表面処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/02 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/68 ,  H05H 1/46 ,  C23C 14/34

FI (7件)：

H01L 21/02 Z ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/68 A ,  H05H 1/46 A ,  C23C 14/34 J ,  H01L 21/302 B