特許
J-GLOBAL ID：200903062603172524
磁気カードおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-186847
公開番号（公開出願番号）：特開平8-025855
出願日： 1994年07月18日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：
【要約】【目的】 磁気記録層に記録された磁気記録情報も、磁気パターンによる固定情報も何れもその内容を目視および磁気ビュアー等で認識することが困難であり極めて安全性の高い磁気パターン付き磁気カードを提供する。【構成】 非磁性基体上に、少なくとも一つの磁気記録層を形成する工程、その上に90%飽和磁界強度が1500エルステッド以下の磁性材料より成る磁気パターンを形成する工程、その上に前記磁気パターンを覆って高透磁率磁性層を塗布する工程、前記高透磁率磁性層が乾燥固化する前に所定の強度の磁界を印加し、その後乾燥固化する工程を少なくとも含む。
請求項（抜粋）：
非磁性基体上に、少なくとも1つの磁気記録層と、高透磁率磁性層とを順次積層してなる磁気カードにおいて、前記高透磁率磁性層の下の所定の領域には、90%飽和磁界強度が1500エルステッド以下の磁性材料よりなる磁気パターンが設けられており、前記高透磁率磁性層における前記磁気パターン上の箇所の磁性材料は前記磁気パターン以外の箇所の磁性材料よりも単位面積あたりの量が少ないことを特徴とする磁気カード。
IPC (3件)：
B42D 15/10 501
, G06K 19/06
, G11B 5/80
