特許

J-GLOBAL ID：200903062632812656

粒子監視システム及び方法

発明者： パトリック キニー ,  ボリス フィスキン ,  ジュン ザオ ,  アーナンド グプタ ,  ロバート ベンドラー
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 中村 稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-104334
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120149
出願日： 1991年05月09日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 監視されるガスによる損傷及び劣化をうけにくい粒子監視システムを提供する。併せて、システムに付随するレンスその他の光学窓を含む部分の表面への粒子の付着を抑制する。【構成】 処理チャンバ排気ライン用の粒子監視システムが開示されており、これは、排気ライン加熱手段、該排気ガスライン内の光学的窓などの表面上のパージガス流、及び熱的に且つ電気的に絶縁性の粒子監視システム取付け構成を備えている。これらの特徴は、協働して、該粒子監視システムを電気的擾乱及び加熱される入口から保護すると共に長期間にわたって該光学面を清潔に保ち且つ該光学面への排気ガス流からの付着を防止する。この構成は、該光学面の腐食も抑制する。

請求項（抜粋）：

光のビームを工作物処理反応装置の排気ラインなどのガス包含領域の中に向ける手段と;その光のビームにより照明される粒子を監視する光学検出器手段と;前記光手段と前記検出器手段とがそれを通じて該ガス包含領域と通じるところの光学窓と;該光学窓に近接する該ガス包含領域を加熱して該窓への付着を抑制する手段とから成ることを特徴とする粒子監視システム。

IPC (8件)：

H01L 21/205 ,  G01N 15/00 ,  G01N 15/14 ,  G01N 21/15 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/02 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-184743