特許

J-GLOBAL ID：200903062634072358

プラズマ処理装置

発明者： 津上 芳三
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 日向寺 雅彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-228878
公開番号（公開出願番号）：特開2003-038951
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2003年02月12日
要約：

【要約】【課題】 大面積に亘って強く均一なプラズマの形成が可能で、且つマイクロ波の透過窓のコストも安いプラズマ処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 大気よりも減圧された雰囲気を維持可能な真空チャンバ(1)と、マイクロ波を導波する導波管(9)と、前記導波管によって導波されたマイクロ波を前記真空チャンバ内に導入するマイクロ波導入部(7)と、を備え、前記マイクロ波導入部を介して前記真空チャンバ内に導入されたマイクロ波によってプラズマを生成可能なプラズマ処理装置であって、前記マイクロ波導入部(7)は、略円筒状の略円筒部(7B)と、前記略円筒部の一方の開口を閉じるように設けられた上面部(7A)と、を有し、前記導波管は、前記略円筒部の周囲を取り囲むように設けられてなることを特徴とするプラズマ処理装置を提供する。

請求項（抜粋）：

大気よりも減圧された雰囲気を維持可能な真空チャンバと、マイクロ波を導波する導波管と、前記導波管によって導波されたマイクロ波を前記真空チャンバ内に導入するマイクロ波導入部と、を備え、前記マイクロ波導入部を介して前記真空チャンバ内に導入されたマイクロ波によってプラズマを生成可能なプラズマ処理装置であって、前記マイクロ波導入部は、略円筒状の略円筒部と、前記略円筒部の一方の開口を閉じるように設けられた上面部と、を有し、前記導波管は、前記略円筒部の周囲を取り囲むように設けられてなることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

Fターム (27件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC06 ,  4G075BC07 ,  4G075CA03 ,  4G075CA26 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC07 ,  4G075EC21 ,  4G075EE12 ,  4G075FA08 ,  4G075FB02 ,  4G075FB03 ,  4G075FB06 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA26 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB17 ,  5F004BB18 ,  5F004BB25