スパッタ装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-125038
公開番号（公開出願番号）：特開平7-331433
出願日： 1994年06月07日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】【目的】大型基板対応のマグネトロンスパッタ装置において、移動可能なマグネトロンプラズマに連動して接地電位電極を配置することで、プラズマ安定化を図りスパッタ成膜の膜質や膜厚の均一化を図る。【構成】真空容器1内に設けられたターゲット2により対向する基板7にターゲット材料をスパッタリングにより堆積させる。この時、移動するマグネトロン磁石6に連動して、ターゲット2と基板7の間の可動接地電位電極5を動かし、プラズマ安定化を図る。ターゲット周囲2には固定接地電位電極4も配置してある。可動接地電位電極5に代えて第2の固定接地電位電極をターゲット2・基板7間に設けることも可能である。

請求項（抜粋）：

真空容器内にターゲット電極と基板電極とを対向配置し、これらの電極間を放電させて、ターゲット電極上にマグネトロン磁場により閉ざされたプラズマ(以下、マグネトロンプラズマと称する)を発生させ、このマグネトロンプラズマ中のイオンにより前記ターゲット電極をスパッタリングしてスパッタ粒子を前記基板電極に堆積させて成膜するスパッタ装置において、前記マグネトロン磁場を形成するためのマグネトロン磁石は、駆動機構により大気側に臨むターゲット電極裏面に沿って移動可能に設定してあり、且つ前記ターゲット電極の周囲に電子捕捉用の固定接地電位電極を配置すると共に、前記ターゲット電極・基板電極間に前記マグネトロン磁石の移動に応じてターゲット電極表面に沿ってマグネトロンプラズマ領域外を移動する電子捕捉用の可動接地電位電極を配置して成ることを特徴とするスパッタ装置。

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