特許

J-GLOBAL ID：200903062641964663

加熱定着装置及び画像形成装置

発明者： 内山 高広
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-293519
公開番号（公開出願番号）：特開2002-108118
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】ギャップgと記録材縁部通過位置Eが連続的に一致することを防止し、ヒータにかかる熱ストレスを小さくすること。【解決手段】ヒータ3と、該ヒータ3と接触するサーミスタ11と、ヒータ3を支持し、前記サーミスタ11を配置するサーミスタ配置口1bを有するヒータステー1とを有する加熱定着装置において、ヒータ3上の記録材縁部が通過する記録材縁部通過位置Eにおいて、前記サーミスタ11及びヒータステー1の一部は、ヒータ3と接触するように構成した。

請求項（抜粋）：

加熱体と、該加熱体と接触する接触部材と、前記加熱体を支持し、前記接触部材を配置する接触部材配置口を有する加熱体支持体とを有する加熱定着装置において、前記加熱体上の記録材縁部が通過する記録材縁部通過位置において、前記接触部材及び前記加熱体支持体の一部は、前記加熱体と接触するように構成したことを特徴とする加熱定着装置。

IPC (2件)：

G03G 15/20 101 ,  H05B 3/00 335

FI (2件)：

G03G 15/20 101 ,  H05B 3/00 335

Fターム (19件)：

2H033AA03 ,  2H033BA11 ,  2H033BA12 ,  2H033BA25 ,  2H033BA26 ,  2H033BA31 ,  2H033BA32 ,  2H033BE03 ,  3K058AA71 ,  3K058BA18 ,  3K058CA23 ,  3K058CA61 ,  3K058CA71 ,  3K058CA78 ,  3K058CE02 ,  3K058CE13 ,  3K058CE19 ,  3K058DA03 ,  3K058GA06