特許
J-GLOBAL ID:200903062662456927

セラミック構造物作製装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小山 有 ,  小山 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-169295
公開番号(公開出願番号):特開2001-348659
出願日: 2000年06月06日
公開日(公表日): 2001年12月18日
要約:
【要約】【課題】 セラミック微粒子を含むエアロゾルを高速で基板に吹き付けてセラミック構造物を形成させるガスデポジション法において、セラミック構造物の堆積高さを調節する手段を提供する。【解決手段】 セラミックの一次粒子を多く含む、経時的に安定した量のエアロゾルを発生させ、セラミック構造物の堆積高さを調節するために、エアロゾル中のセラミック微粒子の量をセンサにより感知し、センサから出力される信号をセラミック構造物作製装置へフィードバックすることによって、経時的に安定した量のエアロゾルを発生させ、セラミック構造物の堆積高さを調節することを可能にした。
請求項(抜粋):
セラミック微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを高速で基板に衝突させてセラミック構造物を作製するセラミック構造物作製装置において、エアロゾルを発生させ、駆動部を有するエアロゾル発生器と、エアロゾルを噴射するノズルと、セラミック構造物の堆積高さを調節する手段を備えたことを特徴とするセラミック構造物作製装置。
IPC (2件):
C23C 14/24 ,  C23C 24/04
FI (2件):
C23C 14/24 T ,  C23C 24/04
Fターム (15件):
4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BD00 ,  4K029CA00 ,  4K029DB10 ,  4K029EA04 ,  4K044AB02 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BB13 ,  4K044CA23 ,  4K044CA24 ,  4K044CA29 ,  4K044CA71
引用特許:
審査官引用 (3件)

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