特許
J-GLOBAL ID：200903062687745923
プラズマエツチング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331269
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144773
出願日： 1991年11月19日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 処理面積の大きなエッチング装置として、低損傷なエッチングが可能な装置を、コンパクトな形状で安価に提供する。【構成】 誘電体線路4を利用したプラズマ装置であって、反応器1内の試料保持装置2に高周波電界又は直流電界を印可するための電源が接続されたプラズマエッチング装置。
請求項（抜粋）：
マイクロ波発振器と、マイクロ波を伝送する導波管と、導波管に接続された誘電体線路と、誘電体線路に対向配置されるマイクロ波導入窓を有する反応器とを備えたプラズマエッチング装置であって、反応器内に処理すべき試料基板を載置するために設けられた試料台に高周波電界又は直流電界を加える手段を備えたことを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, H05H 1/46
