特許

J-GLOBAL ID：200903062691983723

ポリエステルフィルム

発明者： 古谷 幸治 ,  河合 伸一
出願人/特許権者： 帝人株式会社
代理人 (1件)： 前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-271379
公開番号（公開出願番号）：特開2000-094507
出願日： 1998年09月25日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、微細な凹凸を有する基盤に回路を設けるためのフォトレジストフイルムの支持体層として用いた場合、その凹凸に対して極めて優れた基盤追従性を示し、かつ回路の欠陥発生を防止することができ、透明性が高く、フィルムヘーズが低いフィルムを提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、トリメチレンテレフタレート単位が全繰り返し単位の80モル%以上であるポリエステルからなる二軸配向フィルムであり、フィルムの面配向係数(ns)が0.030以上0.115以下であることを特徴とするフォトレジストフィルムの支持体層用ポリエステルフィルムである。

請求項（抜粋）：

トリメチレンテレフタレート単位が全繰り返し単位の80モル%以上であるポリエステルからなる二軸配向フィルムであり、フィルムの面配向係数(ns)が0.030以上0.115以下であることを特徴とするフォトレジストフィルムの支持体層用ポリエステルフィルム。

IPC (6件)：

B29C 55/12 ,  C08J 5/18 CFD ,  G03F 7/004 512 ,  B29K 67:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 67:02

FI (3件)：

B29C 55/12 ,  C08J 5/18 CFD ,  G03F 7/004 512

Fターム (30件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025DA19 ,  2H025FA03 ,  2H025FA15 ,  4F071AA43 ,  4F071AF21Y ,  4F071AF27Y ,  4F071AF30Y ,  4F071AH19 ,  4F071BA01 ,  4F071BB06 ,  4F071BB08 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4F071BC10 ,  4F071BC11 ,  4F071BC16 ,  4F210AA24 ,  4F210AB17 ,  4F210AE01 ,  4F210AF16 ,  4F210AG01 ,  4F210QA02 ,  4F210QC16 ,  4F210QG01 ,  4F210QG18