特許
J-GLOBAL ID:200903062699312909
光学多層膜の作製方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 祐介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-083363
公開番号(公開出願番号):特開平5-249312
出願日: 1992年03月05日
公開日(公表日): 1993年09月28日
要約:
【要約】【目的】 少ない数のモニター基板を用いて光学多層膜を精度高く作製する。【構成】 ガラス基板上に屈折率の異なる多数の薄膜を順次形成して光学多層膜を作製する際に、その各薄膜を、同一の屈折率のものは同一のモニター基板に形成することとして多層に形成し、その各層の形成中にそのモニター基板に対する透過光量または反射光量を測定することによりその層の厚さを求める。その際、モニター基板には薄膜が多層に形成されるが、その各層は屈折率が同じであるため、多層であっても各層の厚さを精度高く求めることができ、こうして求めた厚さによってガラス基板上に薄膜を形成する工程をコントロールすることにより、光学多層膜を高い精度で作製することができる。
請求項(抜粋):
ガラス基板上に屈折率の異なる多数の薄膜を順次形成して光学多層膜を作製する光学多層膜の作製方法において、その各薄膜をガラス基板上に形成する際に同時にモニター基板の上にもその各薄膜を形成し、同一の屈折率の薄膜は同一のモニター基板上に順次形成することとして多層に形成し、その各層の形成中にそのモニター基板の光学特性を測定することによりその層の厚さを求め、この求めた厚さによってガラス基板上に薄膜を形成する工程をコントロールすることを特徴とする光学多層膜の作製方法。
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