特許
J-GLOBAL ID:200903062700113141

真空プラズマ発生器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-577297
公開番号(公開出願番号):特表2005-521202
出願日: 2003年02月19日
公開日(公表日): 2005年07月14日
要約:
真空プラズマプロセスを用いて反応層を析出させるための真空プラズマ発生器(1)であって、高いパルス電力でも確実に動作するように使用可能であり、かつプラズマプロセスにおけるアーク放電をその大部分回避することのできる、真空プラズマ発生器が実現される。上記発生器(1)は、網電圧を整流するための網整流器(6)と、変換器出力電圧を調節および/または調整するためのDC-DC変換器(7)と、上記変換器(7)の後方に接続され、1〜500kHzの範囲のパルスを発生させるための半導体フルブリッジ回路(13)とから構成され、上記フルブリッジ回路(13)の中には、発生器出力のガルヴァーニ減結合をするための電位分離トランス(14)が接続される。
請求項(抜粋):
真空室内で工作物を加工するためのプラズマ放電を供給するための出力部(26,26′)を有する真空プラズマ発生器であって、 交流電圧網に接続するための網接続部(6a)と、 網整流器(6)と、 網整流器(6)に接続され、変換器出力電圧を調節および/または調整するための制御入力部(7a)を有する変換器(7)と、 変換器出力部(7)に接続され、無電位の発生器出力部(26,26′)を有する制御下のフルブリッジ回路(13)とを備え、フルブリッジ回路(13)が変換器出力電圧を1〜500kHzのパルスへ変換し、ブリッジ回路(13)には電位を分離するトランス(14)が挿入されて発生器出力部(26,26′)のガルヴァーニ減結合をする、発生器。
IPC (4件):
H05H1/24 ,  C23C14/34 ,  C23C26/00 ,  H03K17/56
FI (4件):
H05H1/24 ,  C23C14/34 U ,  C23C26/00 E ,  H03K17/56 Z
Fターム (37件):
4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39 ,  4K044AA02 ,  4K044AB10 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BC01 ,  4K044BC06 ,  4K044CA13 ,  4K044CA41 ,  4K044CA71 ,  5J055AX00 ,  5J055BX16 ,  5J055CX00 ,  5J055CX14 ,  5J055DX09 ,  5J055DX60 ,  5J055EX02 ,  5J055EY07 ,  5J055EY12 ,  5J055EZ51 ,  5J055EZ54 ,  5J055FX05 ,  5J055FX18 ,  5J055FX37 ,  5J055GX01 ,  5J055GX02 ,  5J055GX04 ,  5J055GX05 ,  5J055GX06 ,  5J055GX07 ,  5J055GX09

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