特許

J-GLOBAL ID：200903062704911921

2次イオン質量分析装置および分析方法

発明者： 児玉 紀行
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-058183
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260386
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】 ラスタリング領域内でのスパッタリング速度の不均一性を容易に認識できるようにすると共に簡単にこれを修正できるようにする。また、分析領域が異なったことによる1次イオンビームのずれを容易に補正できるようにする。【解決手段】 フィールドアパーチャ22に複数の開口部1〜5を持たせ、各々の領域ごとに2次イオンカウント値を計測する。あるいは、フィールドアパーチャに複数の開口を設けることなく、走査イオン像上の分析領域を複数に分割し同様の手順をとる。その後、スパッタリング時間に対する2次イオン計数値の各領域ごとの分布を比較し、これに基づいてビーム形状を補正しスパッタ速度の不均一を補正する。また、走査イオン像上の分析領域を数分割し分割領域の2次イオン計数値をもとに、ビームを移動しビームの照射位置ずれを補正する。

請求項（抜粋）：

2次イオンが導入される2次イオン光学系に光学的ゲートが設けられている2次イオン質量分析装置において、前記光学的なゲートが複数領域に分割されており、かつ、分割された複数の領域毎に2次イオンをカウントする機能が備えられていることを特徴とする2次イオン質量分析装置。

IPC (3件)：

H01J 49/26 ,  G01N 23/225 ,  G01N 27/62

FI (3件)：

H01J 49/26 ,  G01N 23/225 ,  G01N 27/62 E

Fターム (24件)：

2G001AA05 ,  2G001BA06 ,  2G001CA05 ,  2G001DA01 ,  2G001EA04 ,  2G001FA04 ,  2G001FA11 ,  2G001GA08 ,  2G001GA09 ,  2G001GA13 ,  2G001HA12 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA04 ,  2G001JA11 ,  2G001KA01 ,  2G001QA01 ,  2G001SA01 ,  5C038HH02 ,  5C038HH05 ,  5C038HH12 ,  5C038HH13 ,  5C038HH18 ,  5C038HH26

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-148041
  
• 特開昭60-079253
  
• 特開昭60-148041
  
• 特開昭60-079253