特許

J-GLOBAL ID：200903062707485915

新規ビスジヒドロキシベンゼン化合物、その製造方法およびその用途

発明者： 浦上 達宣 ,  大辻 淳夫 ,  鈴木 理穂子 ,  詫摩 啓輔 ,  山口 桂三郎
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-302831
公開番号（公開出願番号）：特開平10-139864
出願日： 1996年11月14日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で表されるビスジヒドロキシベンゼン化合物、その製造方法、およびその用途。【効果】 本発明の化合物は、フェノール化合物の代替として、エポキシ樹脂原料、エポキシ樹脂硬化剤に、また、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアクリレート等の樹脂原料として用いられ、特にフォトレジスト用材料として感光性樹脂組成物中の必須成分として用いることにより感度、解像度に優れたポジ型レジストを与える。

請求項（抜粋）：

一般式(1)(化1)で表されるビスジヒドロキシベンゼン化合物。【化1】

IPC (5件)：

C08G 61/02 ,  C07C 37/16 ,  C07C 39/15 ,  G03F 7/004 501 ,  C23F 1/00 102

FI (5件)：

C08G 61/02 ,  C07C 37/16 ,  C07C 39/15 ,  G03F 7/004 501 ,  C23F 1/00 102