特許
J-GLOBAL ID：200903062722964633
処理装置および処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-151511
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335553
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】 コリメータにシャッタ機能を兼備させるとともに、パーティクルの発生の抑止が可能なコリメータを提供する。【構成】 本発明によれば、ターゲット(4)よりスパッタされたスパッタリング粒子の飛翔方向を規制するコリメータ(5)を、略平行に配列された複数の仕切り板(50、51)から構成し、各仕切り板に各回転軸(52、53)周りを回転させることにより、そのターゲット側と被処理体側とを反転させることが可能なルーバ機構を持たせている。そのため、必要に応じて、処理容器のターゲット側と被処理体側とを遮蔽することが可能であるともに、ターゲット側と被処理体側とを反転させることが可能である。
請求項（抜粋）：
処理室内に被処理体とターゲットとを対向配置し、そのターゲットよりスパッタされたスパッタリング粒子の飛翔方向をコリメータにより規制して前記被処理体に被着させる処理装置において、前記コリメータが、そのターゲット側と被処理体側とを反転させることが可能な反転手段を備えていることを特徴とする、処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/203
, C23C 14/34
, H01L 21/31
