特許

J-GLOBAL ID：200903062749509652

光学用飽和ノルボルネンフイルム及びその製造法

発明者： 波多 快之
出願人/特許権者： 波多 快之
代理人 (1件)： 菊池 新一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-293130
公開番号（公開出願番号）：特開2003-094469
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：

【要約】【課題】 TFT型や階調表示のFSTN型のように高コントラストを実現した液晶表示装置の高コントラスト特性を実質的に損なうことなく、かつ生産性に優れた光学用フイルムを提供する。【解決手段】 流延法又は溶融押出法で製造される飽和ノルボルネンフイルムをその製造工程の途中でフイルム面に磁界をかけたり、製造後のフイルムに温度と磁界をかけることによってフィルム異方性を制御する。

請求項（抜粋）：

飽和ノルボルネンドープ溶液を、流延機より流延用支持体上に押出し、固化して後、流延用支持体から剥離、乾燥して巻き取る、飽和ノルボルネンフイルム流延製膜法において、流延以降の固化、剥離、乾燥の製造工程で、フイルム面に、0.002T(テスラ)以上の磁束密度をかけて、フィルム異方性を制御することを特徴とする光学用フイルムの製造法。

IPC (10件)：

B29C 41/28 ,  B29C 41/50 ,  C08J 5/18 CER ,  C08J 5/18 CEZ ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/13363 ,  B29K 45:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 45:00 ,  C08L 65:00

FI (10件)：

B29C 41/28 ,  B29C 41/50 ,  C08J 5/18 CER ,  C08J 5/18 CEZ ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/13363 ,  B29K 45:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 45:00 ,  C08L 65:00

Fターム (29件)：

2H049BA02 ,  2H049BA04 ,  2H049BA06 ,  2H049BB22 ,  2H049BC06 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FB02 ,  2H091GA16 ,  2H091LA12 ,  4F071AA39 ,  4F071AA69 ,  4F071AA86 ,  4F071AF31 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F205AA12 ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205AM29 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC02 ,  4F205GC07 ,  4F205GN24