特許

J-GLOBAL ID：200903062755241858

電鋳品製造方法

発明者： 小野 五千郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 木内 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-190882
公開番号（公開出願番号）：特開2005-023380
出願日： 2003年07月03日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】液状タイプのネガレジストによって形成した厚膜レジスト層を用いたLIGAライクプロセスの際にレジスト層の剥離を不要にして、アスペクト比の高い母型パターンから電鋳品を容易に製造できる電鋳品製造方法を提供する。【解決手段】フォトポリマを用いてアスペクト比の高いレジストパターンが転写された反転型40を製造した後、このフォトポリマで形成された反転型40を用いてニッケル電鋳品60を製造するようにした。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

フォトポリマを用いてアスペクト比の高い母型パターンが転写された反転型を製造する転写工程と、 前記転写工程の後、前記反転型を用いて電鋳品を製造する電鋳工程と を含むことを特徴とする電鋳品製造方法。

IPC (4件)：

C25D1/10 ,  C25D1/00 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

FI (4件)：

C25D1/10 ,  C25D1/00 381 ,  G03F7/40 521 ,  H01L21/30 502D

Fターム (6件)：

2H096AA30 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096HA30 ,  2H096LA30 ,  5F046AA28