特許
J-GLOBAL ID：200903062755604551
ポリエチレンから成る安定成形材料、及びその製造方法及びその用途
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-026787
公開番号（公開出願番号）：特開平6-299011
出願日： 1994年02月24日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：
【要約】【構成】 酸化防止剤及びトコフェロール、特にα- トコフェロールまたはの誘導体を含み、105 〜107g/molの平均分子量を有するポリエチレンから成る安定成形材料、及びその製造方法及び使用方法。【効果】 酸化作用を受けにくいポリエチレン安定成形材料が得られる。
請求項（抜粋）：
酸化防止剤及びトコフェロール、特にα- トコフェロールまたはその誘導体を含み、105 〜107g/molの平均分子量を有するポリエチレンから成る安定成形材料。
IPC (6件)：
C08L 23/06 KET
, C08J 3/22 CES
, C08K 5/10 KEQ
, C08K 5/15
, C08K 5/36 KFD
, C08K 5/39 KFF
