特許
J-GLOBAL ID：200903062757119111
基板断面観察装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-303896
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221145
出願日： 1994年12月07日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 観察用の荷電ビームを断面観察面に斜め上方から照射しても、ほぼ垂直方向から照射した場合と同等の観察像を得ることができる。【構成】 ステージ2には被検ウェハーが載置され、ステージ制御装置6は、座標入力装置7からの座標データに基づき被検ウェハーの被検箇所がイオンビーム照射装置3の真下に位置するように、ステージ2を移動させる。イオンビーム照射装置3はイオンビーム3Aを被検ウェハーに垂直に照射し、断面観察面を作成する。電子ビーム照射装置4はイオンビーム照射装置3に対して角度θだけ傾斜され、電子ビーム4Aを斜め上方から断面観察面に照射する。検出器5は二次電子を検出しビデオ信号を発生し、画像処理装置11はこのビデオ信号を傾斜角度θで補正して、断面観察面を垂直方向から観察した時の画像に変換する。
請求項（抜粋）：
基板を載置するステージと、加工用の荷電ビームを上記基板の表面にほぼ垂直に照射してほぼ垂直な観察面を加工する第1の荷電ビーム照射装置と、上記第1の荷電ビーム照射装置に対して傾斜して配置され、観察用の荷電ビームを上記観察面に所定の傾斜角度で照射する第2の荷電ビーム照射装置と、上記観察用の荷電ビームの照射によって発生した二次電子を検出し画像信号を発生する検出器と、上記所定の傾斜角度を表す傾斜角信号を発生する傾斜角信号発生部と、上記傾斜角信号発生部の上記傾斜角信号によって上記検出器の画像信号を補正する画像処理部と、上記補正された画像信号に基づき上記観察面の画像を表示する表示装置とを具備することを特徴とする基板断面観察装置。
IPC (2件)：
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