特許
J-GLOBAL ID：200903062762172705
反射防止層を有する光学材料及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-196533
公開番号（公開出願番号）：特開平7-048527
出願日： 1993年08月06日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】【目的】 光学材料用基体の耐衝撃性などの特性が損なわれることなく、かつ反射防止層の密着性が十分であり、画像の解像度が低下することがない反射防止層を有する光学材料を容易に、生産性良く、低コストで得ることができる反射防止層を有する光学材料の製造方法を提供。【構成】 屈折率が1.46以上の光を透過する光学材料用基体の表面に平均粒径0.3〜100nmの多孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有する反射防止層形成用塗布液を塗布し、前記無機微粉末がバインダー中に分散したものからなり、前記光学材料用基体よりも0.02以上低い屈折率を有し、かつ厚さが50〜5000nmの反射防止層を形成する。
請求項（抜粋）：
屈折率が1.46以上の光を透過する光学材料用基体と、この光学材料用基体の表面を覆う反射防止層とからなる光学材料であって、前記反射防止層は平均粒径0.3〜100nmの多孔質シリカよりなる無機微粉末がバインダー中に分散したものからなり、前記光学材料用基体よりも0.02以上低い屈折率を有し、かつ厚さが50〜5000nmであることを特徴とする反射防止層を有する光学材料。
IPC (4件)：
C09D 5/00 PPQ
, B05D 5/06
, C09D 7/12 PSK
, G02B 1/11
