特許

J-GLOBAL ID：200903062763017096

ガス導入装置およびガス分析装置

発明者： 名取 巌 ,  蓮見 啓二 ,  小池 譲治
出願人/特許権者： 日立東京エレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-080739
公開番号（公開出願番号）：特開平11-281539
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：

【要約】【課題】 大気中の微量不純物の高精度な測定を可能にする。【解決手段】 APIMS等のガス分析装置40の前段に、分析対象の大気30から、吸着筒1〜3に充填されたモレキュラーシーブ1a〜3a等にて水分を除去した大気30aを得る大気導入ユニット11を設け、ガス分析装置40における水分起源のイオンがノイズとして発生することを回避し、大気30a中の微量不純物の高精度な測定を可能にした。大気導入ユニット11では、パージガス31の導入およびヒータ12〜14のベーキングにより、使用済の吸着筒1〜3の再生操作を行う。導入される大気30からの水分吸着と、再生操作は、入口側の2連3方弁4〜6、出口側の2連3方弁7〜9の操作により、異なる吸着筒1〜3において並行して実行可能であり、ガス分析装置40における連続した、分析操作が可能である。

請求項（抜粋）：

導入ガス中から目的除去成分を除去する除去手段を備えたことを特徴とするガス導入装置。

IPC (3件)：

G01N 1/22 ,  G01N 27/62 ,  H01J 49/04

FI (4件)：

G01N 1/22 B ,  G01N 1/22 L ,  G01N 27/62 F ,  H01J 49/04