特許
J-GLOBAL ID：200903062791079749
検査装置および半導体装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-059431
公開番号（公開出願番号）：特開平9-251025
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：
【要約】【課題】 光学顕微鏡とSPMとを備え、所定のパターンにSPMの探針を当接させることにより検査を行う検査装置において、光学顕微鏡とSPMとを機械的に切り換える際の誤差に起因する光顕像とSPM像の座標系のずれを迅速に検出し、補正する。【解決手段】 SPM像による試料表面の走査を1または高々数本の1次元ラインプロファイルに限定し、最適位置を選んで、光顕像とかかるラインプロファイルとのパターンマッチングを実行する。
請求項（抜粋）：
探針により試料表面形状を測定する検査装置において、前記探針を移動自在に担持する移動体手段と、前記探針の変位から試料表面形状に関する情報を求める測定手段と、前記移動体の移動を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記移動体を、前記探針が前記試料表面を第1の方向に走査するように移動させ、前記測定手段は、前記探針の走査より、前記試料表面形状の前記第1の方向に沿ったラインプロファイルを求め、前記検査装置はさらに、前記ラインプロファイルをあらわすラインプロファイル信号を供給され、さらに前記試料表面画像をあらわず画像信号を供給され、前記ラインプロファイル信号と前記画像信号のパターンマッチングを行うことにより、前記画像の座標系に対する前記ラインプロファイルの座標系のずれを求める位置決め手段を備えたことを特徴とする検査装置。
IPC (5件)：
G01N 37/00
, G01B 9/04
, G01B 21/30
, H01J 37/28
, H01L 21/66
G01N 37/00 A
, G01B 9/04
, G01B 21/30 Z
, H01J 37/28 Z
, H01L 21/66 J
