成膜装置および成膜方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-261830
公開番号（公開出願番号）：特開2002-069649
出願日： 2000年08月30日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【課題】原料ガスの使用効率を高め、特に、大型のリング状基体に対しても高速で成膜することによって低コスト化の可能なCVD装置を提供する。【解決手段】反応容器1と、該反応容器1内に設けられ、リング状基体5を支持するための支持体2と、該リング状基体5を加熱する手段とを具備する成膜装置であって、前記リング状基体5の内側に位置する空間内に、反応ガスを前記リング状基体5の中心から前記リング状基体5の内周面及び/又は上面に導くためのガス導入手段とを具備することを特徴とする

請求項（抜粋）：

反応容器と、該反応容器内に設けられ、リング状基体を支持するための支持体と、該リング状基体を加熱する手段とを具備する成膜装置であって、前記リング状基体の内側に位置する空間内に、反応ガスを前記リング状基体の中心から前記リング状基体の内周面及び/又は上面に導くためのガス導入手段とを具備することを特徴とする成膜装置。

Fターム (13件)：

4K030AA03 , 4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030BA37 , 4K030CA01 , 4K030CA05 , 4K030CA11 , 4K030EA06 , 4K030FA10 , 4K030JA10 , 4K030JA12 , 4K030KA24 , 4K030KA46

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