特許
J-GLOBAL ID:200903062817565779
ポリマー混合物ならびに関連する調製法および使用法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
坂口 博 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-049993
公開番号(公開出願番号):特開2003-292716
出願日: 2003年02月26日
公開日(公表日): 2003年10月15日
要約:
【要約】【課題】 リソグラフィー用フォトレジスト組成物における使用に好適である実質的に均一なポリマー混合物を提供すること。【解決手段】 ポリマー混合物が、リソグラフィー用フォトレジスト組成物(具体的には化学増幅型フォトレジスト)における使用のために提供される。好ましい実施形態において、該ポリマー混合物は、遠紫外線(すなわち、157nm、193nmおよび248nmの波長を含む250nm未満の波長を有する放射線)に対して実質的に透明であり、かつ改善された感光性および解像度を有する。該ポリマー混合物を調製および使用するためのプロセスもまた、該ポリマー混合物を含有するリソグラフィー用フォトレジスト組成物と同様に提供される。
請求項(抜粋):
第1のポリマーおよび第2のポリマーを含む実質的に均一なポリマー混合物であって、第1のポリマーが、下記の式(I)の構造:【化1】(式中、R1はC1〜12アルキルまたはC1〜12フルオロアルキルであり;R2はC1〜12フルオロアルキルであり;かつLはC1〜6アルキレンまたはC1〜6フルオロアルキレンであり、ただし、非置換として示されるいずれの炭素原子も不活性な非水素置換基で場合により置換される)を有するモノマー・ユニットからなる、実質的に均一なポリマー混合物。
IPC (8件):
C08L 45/00
, C08F212/14
, C08F216/14
, C08F232/08
, C08L101/00
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (8件):
C08L 45/00
, C08F212/14
, C08F216/14
, C08F232/08
, C08L101/00
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Fターム (35件):
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J002BC12X
, 4J002BE04X
, 4J002BK00W
, 4J002BK00X
, 4J002GP03
, 4J100AB07S
, 4J100AE09R
, 4J100AL26Q
, 4J100AM03Q
, 4J100AR11P
, 4J100BA03P
, 4J100BA03S
, 4J100BB07P
, 4J100BB07Q
, 4J100BB07R
, 4J100BB07S
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100JA38
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