特許
J-GLOBAL ID:200903062819280470

二酸化炭素による洗浄方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥山 尚一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-339503
公開番号(公開出願番号):特開2003-135891
出願日: 2001年11月05日
公開日(公表日): 2003年05月13日
要約:
【要約】【課題】 液体二酸化炭素又は臨界二酸化炭素による洗浄が終了した後、洗浄槽内を急激に降圧させても、ドライアイスが発生せず、また、被洗浄物の破損も生じないため、高い稼働率で洗浄を行うことができる二酸化炭素による洗浄方法及びその装置を提供する。【解決手段】 洗浄槽6内に被洗浄物12と、洗浄溶媒として液体二酸化炭素又は超臨界二酸化炭素を導入して洗浄を行う工程と、該洗浄槽6内の該洗浄溶媒を不活性ガスで置換した後、該洗浄槽6から該被洗浄物12を取り出す工程とを含んでなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
洗浄槽内に被洗浄物と、洗浄溶媒として液体二酸化炭素又は超臨界二酸化炭素を導入して洗浄を行う工程と、該洗浄槽内の該洗浄溶媒を不活性ガスで置換した後、該洗浄槽から該被洗浄物を取り出す工程とを含んでなる二酸化炭素による洗浄方法。
IPC (4件):
D06F 43/00 ,  B01D 11/00 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/50
FI (4件):
D06F 43/00 Z ,  B01D 11/00 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/50
Fターム (43件):
3B155AA01 ,  3B155BA10 ,  3B155BB16 ,  3B155BB18 ,  3B155CB38 ,  3B155CB51 ,  3B155CC06 ,  3B155CC15 ,  3B155FE04 ,  3B155MA08 ,  3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB62 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB99 ,  3B201CD01 ,  3B201CD22 ,  4D056AB11 ,  4D056AB17 ,  4D056AC21 ,  4D056AC24 ,  4D056BA16 ,  4D056CA03 ,  4D056CA06 ,  4D056CA11 ,  4D056CA13 ,  4D056CA17 ,  4D056CA20 ,  4D056CA21 ,  4D056CA22 ,  4D056CA28 ,  4D056CA31 ,  4D056CA39 ,  4D056CA40 ,  4H003DA01 ,  4H003DB02 ,  4H003DC03 ,  4H003EA31 ,  4H003ED32 ,  4H003FA15
引用特許:
審査官引用 (3件)

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